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「Photolithography」一詞在本院(原國立編譯館)民國八十七年出版之《電子計算機名詞》已有收錄。該名詞審查委員會於民國八十一年成立,聘請二十一位委員(學術界十一人、產業界六人、政府單位四人),審查工作於民國八十二年十二月完成,期間共召開了一百六十四場審查會議,當時會議決定的中文翻譯即為「光刻」。另外,電子工程及電機工程等學術領域對於「Photolithography」一詞也翻為「光刻」。本院目前有30個領域學術名詞審譯會,審譯名詞均依據信達雅及共識的原則。
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